Pin mặt trời HJT đơn sắc hai mặt loại N

Pin mặt trời HJT đơn sắc hai mặt loại N

Công nghệ tiếp xúc silicon (HJT) dựa trên trường phát và bề mặt sau (BSF) được tạo ra bởi sự tăng trưởng ở nhiệt độ thấp của các lớp silicon vô định hình siêu mỏng (a-Si:H) trên cả hai mặt của tấm silicon đơn tinh thể được làm sạch rất tốt, có độ dày dưới 200 μm, trong đó các electron và lỗ trống được tạo quang. Quá trình tế bào được hoàn thành bằng sự lắng đọng các oxit dẫn điện trong suốt cho phép tạo ra kim loại hóa tuyệt vời. Quá trình kim loại hóa có thể được thực hiện bằng phương pháp in lụa tiêu chuẩn được sử dụng rộng rãi trong công nghiệp cho phần lớn tế bào hoặc bằng các công nghệ tiên tiến.
Share to
Gửi yêu cầu
Nói chuyện ngay
Mô tả
Thông số kỹ thuật

 

 

Mô tả sản phẩm

 

 

 

Cấu trúc lõi tế bào HJT

 

Công nghệ tiếp xúc silicon (HJT) dựa trên trường phát và bề mặt sau (BSF) được tạo ra bởi sự phát triển ở nhiệt độ thấp của các lớp silicon vô định hình siêu mỏng (a-Si:H) trên cả hai mặt của tấm silicon đơn tinh thể được làm sạch rất tốt, có độ dày dưới 200 μm, trong đó các electron và lỗ trống được quang tạo.

product-1-1
HJT solar cell structure 400

Quy trình chế tạo tế bào HJT

 

Quá trình tạo tế bào được hoàn thành bằng sự lắng đọng các oxit dẫn điện trong suốt cho phép tạo ra kim loại hóa tuyệt vời. Quá trình kim loại hóa có thể được thực hiện bằng phương pháp in lụa tiêu chuẩn được sử dụng rộng rãi trong công nghiệp cho phần lớn tế bào hoặc bằng các công nghệ tiên tiến.

Ưu điểm của công nghệ HJT

 

Pin mặt trời silicon công nghệ dị vòng (HJT) đã thu hút rất nhiều sự chú ý vì chúng có thể đạt được hiệu suất chuyển đổi cao, lên tới 25%, trong khi sử dụng xử lý ở nhiệt độ thấp, thường dưới 250 độ cho toàn bộ quy trình. Nhiệt độ xử lý thấp cho phép xử lý các tấm silicon có độ dày dưới 100 μm trong khi vẫn duy trì năng suất cao.

Profile2

 

 

 

 

               

Luồng quy trình

 

 

 

                       

 

 

Process flow A black

 

 

Các tính năng chính

 

 

 

 

Hiệu quả cao và Voc cao

Hệ số nhiệt độ thấp tăng sản lượng điện 5-8%

Cấu trúc hai mặt

 

[Dữ liệu kỹ thuật]

 

HJT solar cell Technical Data 1R
 

THÔNG SỐ KỸ THUẬT VÀ THIẾT KẾ HỆ SỐ NHIỆT ĐỘ VÀ KHẢ NĂNG HÀN
Kích thước 156,75mm*156,75mm±0,25 Tkước (%/K) -0.27
độ dày 190±30 µm TkIsc (%/K) +0.05
Đằng trước 5 thanh cái TkPMAX (%/K) -0.336
Mặt sau 5 thanh cái Độ bền tối thiểu của vỏ >1,4N/mm

 

HJT solar cell Technical Data 2R

 

KHÔNG. Hiệu quả (%) Pmpp (W) Ước (V) Isc (A) FF (%)
1 23.50 5.74 0.743 9.6 80.53
2 23.40 5.72 0.741 9.592 80.43
3 23.30 5.70 0.74 9.585 80.33
4 23.20 5.67 0.738 9.577 80.24
5 23.10 5.65 0.737 9.57 80.14
6 23.0 5.63 0.735 9.562 80.04
7 22.90 5.60 0.733 9.554 79.94
8 22.80 5.58 0.732 9.547 79.84
9 22.70 5.55 0.73 9.539 79.75
10 22.60 5.53 0.729 9.532 79.65
11 22.50 5.51 0.727 9.524 79.55
12 22.40 5.48 0.725 9.516 79.45
13 22.30 5.46 0.724 9.509 79.36
14 22.20 5.44 0.722 9.501 79.26
15 22.10 5.41 0.721 9.494 79.16
16 22.00 5.39 0.719 9.486 79.06
17 21.90 5.37 0.717 9.479 78.97
18 21.80 5.35 0.716 9.471 78.87
19 21.70 5.32 0.714 9.463 78.77
20 21.60 5.30 0.712 9.456 78.67
21 21.50 5.28 0.711 9.448 78.57

 

 

Giấy chứng nhận

 

 

4

 

 

1 1

  

 

 

Chú phổ biến: Pin mặt trời HJT hai mặt đơn loại N, Trung Quốc, nhà cung cấp, nhà sản xuất, nhà máy, sản xuất tại Trung Quốc

Gửi yêu cầu
Gửi yêu cầu